半自动双面套刻光刻机
半自动双面套刻光刻机SAT-MA是高精度双面套刻接触接近式掩模曝光机，面向12英寸及以下的中小基底光刻领域，满足先进封装、化合物半导体、MEMS等领域双面套刻对位光刻工艺需求。
❏ 主要技术参数
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特征 |
参数 |
参数 |
参数 |
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型号 |
SAT-MA6200 |
SAT-MA8200 |
SAT-MAC200 |
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曝光均匀性 |
≥98% |
≥97% |
≥97% |
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光源 |
UVLED （350-450nm） |
UVLED （350-450nm） |
UVLED （350-450nm） |
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曝光能量密度 |
5-50mW/cm2 |
5-50mW/cm2 |
5-50mW/cm2 |
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分辨率 |
0.8μm |
1μm |
2μm |
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正面套刻精度 |
±0.5μm |
±0.5μm |
±1μm |
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背面套刻精度 |
±1.5μm |
±1.5μm |
±1.5μm |
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掩模尺寸 |
3/5/7英寸 |
7/9英寸 |
9/14英寸 |
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晶元尺寸 |
1/2/4/6英寸 |
6/8英寸 |
8/12英寸 |
