光伏电镀铜曝光机

光伏电镀铜曝光机PEC-MA1101是一款生产HJT电池的掩膜光刻设备,用于生产更细的铜栅替代银浆丝网印刷线路,提高转换效能并降低成本。
铜电镀类似于半导体工艺,其利用金属化铜电极代替原有栅极,实现替代银浆的效果。电镀铜需要先在准备好的 TCO 膜上镀上一层铜金属层,再涂上感光胶,采用曝光、显影处理,然后用电镀工艺加厚种子层,随后去掉掩膜及种子层。镀铜代替银浆在性能、转换效率上提高了 1-2 个百分点,具备较大的优势。

 主要技术参数

 

特征

参数

型号

PEC-MA1101

曝光均匀性

≥97%

光源

UVLED350-450nm

曝光能量密度

5-100mW/cm2

分辨率

6μm

套刻精度

±3μm

掩膜版尺寸

9英寸

装片规格

166mm×166mm

182mm×182mm

210mm×210mm