光伏电镀铜曝光机
光伏电镀铜曝光机PEC-MA1101是一款生产HJT电池的掩膜光刻设备,用于生产更细的铜栅替代银浆丝网印刷线路,提高转换效能并降低成本。
铜电镀类似于半导体工艺,其利用金属化铜电极代替原有栅极,实现替代银浆的效果。电镀铜需要先在准备好的 TCO 膜上镀上一层铜金属层,再涂上感光胶,采用曝光、显影处理,然后用电镀工艺加厚种子层,随后去掉掩膜及种子层。镀铜代替银浆在性能、转换效率上提高了 1-2 个百分点,具备较大的优势。
铜电镀类似于半导体工艺,其利用金属化铜电极代替原有栅极,实现替代银浆的效果。电镀铜需要先在准备好的 TCO 膜上镀上一层铜金属层,再涂上感光胶,采用曝光、显影处理,然后用电镀工艺加厚种子层,随后去掉掩膜及种子层。镀铜代替银浆在性能、转换效率上提高了 1-2 个百分点,具备较大的优势。
❏ 主要技术参数
特征 |
参数 |
型号 |
PEC-MA1101 |
曝光均匀性 |
≥97% |
光源 |
UVLED(350-450nm) |
曝光能量密度 |
5-100mW/cm2 |
分辨率 |
6μm |
套刻精度 |
±3μm |
掩膜版尺寸 |
9英寸 |
装片规格 |
166mm×166mm 182mm×182mm 210mm×210mm |