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公司专注于为芯片加工厂和太阳能电池加工厂提供全自动光刻设备和技术解决方案
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全自动接近式掩模光刻机
全自动接近式掩模光刻机AT-MA是面向12英寸及以下中小基底的掩模曝光机,满足先进封装,化合物半导体,功率器件,LED,传感器和MEMS等领域光刻工艺需求。¥ 0.00了解更多
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半自动双面套刻光刻机
半自动双面套刻光刻机SAT-MA是高精度双面套刻接触接近式掩模曝光机,面向12英寸及以下的中小基底光刻领域,满足先进封装、化合物半导体、MEMS等领域双面套刻对位光刻工艺需求。¥ 0.00了解更多
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光伏电镀铜曝光机
光伏电镀铜曝光机PEC-MA1101是一款生产HJT电池的掩膜光刻设备,用于生产更细的铜栅替代银浆丝网印刷线路,提高转换效能并降低成本。
铜电镀类似于半导体工艺,其利用金属化铜电极代替原有栅极,实现替代银浆的效果。电镀铜需要先在准备好的 TCO 膜上镀上一层铜金属层,再涂上感光胶,采用曝光、显影处理,然后用电镀工艺加厚种子层,随后去掉掩膜及种子层。镀铜代替银浆在性能、转换效率上提高了 1-2 个百分点,具备较大的优势。¥ 0.00了解更多
苏州中特微电子科技有限公司
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苏州中特微电子科技有限公司成立于2021年09月,工厂位于苏州市吴江区江陵街道交通路1188号,研发中心位于重庆北碚区水土高新园区方正大道266号。中特微是苏州吴江崇本人才孵化类重点项目和姑苏创业领军人才计划重点项目。2024年,获中国仪器仪表学会科技进步二等奖和机械工业科技进步二等奖。
苏州中特微是一家致力于提供智能高速光刻设备的提供商。专注于为晶圆加工厂和太阳能电池加工厂提供全自动紫外光刻设备和技术解决方案,形成了UVLED平行光源模组、全自动接近式光刻机、半自动双面套刻光刻机和光伏电镀铜曝光机等系列产品,已应用于三安光电、兆驰股份和华灿光电等上市公司。
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